信息详情
集成电路装备(02专项) | 重点进行45-22纳米关键制造装备攻关,开发32-22纳...重点进行45-22纳米关键制造装备攻关,开发32-22纳米互补金属氧化物半导体(CMOS)工艺、90-65纳米特色工艺,开展22-14纳米前瞻性研究,形成65-45纳米装备、材料、工艺配套能力及集成电路制造产业链
友情提示
此页是<集成电路装备(02专项)>的介绍页面,并非官方站点,我们收集于网络只为广大网民快速查询提供帮助。
如涉及内容、版权等问题,请在30日内联系,我们将在第一时间删除内容!点此纠错或删除此信息
如涉及内容、版权等问题,请在30日内联系,我们将在第一时间删除内容!点此纠错或删除此信息
信息资料